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微细加工技术杂志

微细加工技术杂志统计源期刊

Microfabrication Technology

主管单位:信息产业部 主办单位:中国电子科技集团公司第48研究所

  • 审稿周期

    3-6个月

  • 总被引次数

    870

  • H指数

    13

  • 期刊他引率

    1

基本信息:
ISSN:1003-8213
CN:43-1140/TN
主编:伍三忠
邮编:410111
出版信息:
出版地区:湖南
出版周期:双月刊
出版语言:中文
创刊时间:1983
类别:电子
收录信息:
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荣誉信息:
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期刊介绍 投稿须知 文献分析 发文分析 期刊文献 常见问题

微细加工技术期刊介绍

《微细加工技术》是由中国电子科技集团公司第48研究所主办,信息产业部主管的全国性电子类期刊,创刊于1983年,刊号(CN 43-1140/TN,ISSN 1003-8213),双月刊。该杂志以刊登电子科学论文、评价电子科研成果、探讨电子教学规律、传播电子教学经验、开展电子学术讨论、报道电子研究动态、提供国内外电子信息为主旨,引领电子前沿和热难点问题研究,助电子经学者成长。该刊级别为统计源期刊,欢迎广大读者订阅。

《微细加工技术》期刊栏目主要有:综述 电子束技术 离子束技术 光子束技术 薄膜技术 微机械加工技术 纳米技术

微细加工技术投稿须知

(1)题目:应反映文章主要内容,一般不用副标题,不超过20个汉字,避免使用非公知的外文缩写。

(2)本刊将对一稿两投者表示公开谴责,通知作者单位,并2年内拒绝该文第一作者的任何来稿。

(3)来稿一经采用,因人力所限一般不退稿,请作者自留底稿,文稿署名自便,但来稿请注明作者真实姓名、单位、职称、通讯地址、邮政编码及电话,以便联系。

(4)注释时,必须将其作者姓名、文献名、出版社、出版时间、所属页码一并注出。

(5)参考文献:作者年份制,正文中以(作者,年份)形式置于对应处;详细内容采用文后注形式,中文在前、英文在后,以音序排序,具体著录格式见附件。

微细加工技术文献分析

1、主要引证文献期刊分析

序号 期刊 涉及文献量
1 《微纳电子技术》 61
2 《光学精密工程》 50
3 《材料导报》 36
4 《电子工业专用设备》 36
5 《纳米技术与精密工程》 32
6 《半导体技术》 27
7 《功能材料与器件学报》 25
8 《传感技术学报》 24
9 《压电与声光》 24
10 《中国机械工程》 23

2、主要参考文献期刊分析

序号 期刊 涉及文献量
1 《半导体学报:英文版》 35
2 《中国机械工程》 27
3 《光学精密工程》 26
4 《物理学报》 26
5 《光电工程》 25
6 《微纳电子技术》 18
7 《机械工程学报》 16
8 《光学学报》 16
9 《电子工业专用设备》 16
10 《传感器技术》 14

微细加工技术主要发文机构分析

序号 机构名称 发文量 相关发文主题
1 中国科学院 192 光刻;电子束曝光;曝光机;电子束曝光机;掩模
2 上海交通大学 129 微机电系统;电系统;机电系统;MEMS;刻蚀
3 清华大学 60 微细;光刻;微细加工;离子束;聚焦离子束
4 中国科学技术大学 47 刻蚀;离子束;离子束刻蚀;光刻;衍射
5 电子工业部 46 离子注入;注入机;离子注入机;半导体;电路
6 中国科学院微电子研究所 38 光刻;掩模;X射线光刻;电子束曝光;分辨率
7 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 34 光栅;MEMS;刻蚀;光刻;传感
8 山东大学 29 电子束;电子束曝光;曝光机;电子束光刻;电子束曝光机
9 山东工业大学 28 电子束曝光;曝光机;电子束曝光机;电子束;电路
10 华中理工大学 26 刻蚀;溅射;半导体;等离子体;离子束

微细加工技术期刊文献

  • 基于MEMS的无阀泵研究进展 作者:白兰; 冯志庆; 吴一辉;大连民族学院; 大连; 116600; 大连民族学院; 大连; 116600; 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所; 长春130033
  • 电感耦合等离子体源的研究进展 作者:杨定宇; 蒋孟衡;成都信息工程学院光电技术系; 成都; 610225; 成都信息工程学院光电技术系; 成都; 610225
  • 光刻结合热解制备高深宽比碳微结构的新方法 作者:汤自荣; 姚园媛; 史铁林; 廖广兰;华中科技大学; 机械科学与工程学院; 武汉; 430074; 武汉光电国家试验室; 武汉; 430074; 华中科技大学; 机械科学与工程学院; 武汉; 430074; 武汉光电国家试验室; 武汉; 430074; 华中科技大学; 机械科学与工程学院; 武汉; 430074; 武汉光电国家试验室; 武汉; 430074; 华中科技大学; 机械科学与工程学院; 武汉; 430074; 武汉光电国家试验室; 武汉; 430074
  • 基于光刻版的无留膜紫外纳米压印技术研究 作者:张亚军; 丁玉成; 卢秉恒;西安交通大学; 机械制造系统工程国家重点实验室; 西安; 710049; 西安交通大学; 机械制造系统工程国家重点实验室; 西安; 710049; 西安交通大学; 机械制造系统工程国家重点实验室; 西安; 710049
  • 接近式光刻的角谱法仿真研究 作者:李晓光; 沈连; 郑津津; 李木军; 陈有梅;中国科学技术大学; 机密机械与精密仪器系; 合肥; 230027; 中国科学技术大学; 机密机械与精密仪器系; 合肥; 230027; 中国科学技术大学; 机密机械与精密仪器系; 合肥; 230027; 中国科学技术大学; 机密机械与精密仪器系; 合肥; 230027; 中国科学技术大学; 机密机械与精密仪器系; 合肥; 230027
  • 评价任意面型微光学元件制作误差的方法 作者:高洪涛; 杜春雷; 张雨东;中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室; 成都610209; 中国科学院研究生院; 北京; 100039; 中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室; 成都610209; 中国科学院光电技术研究所; 成都; 610209
  • 自动微分法求解粒子光学像差的精度分析 作者:李文萍; 顾文琪;中国科学院电工研究所; 北京; 100080; 中国科学院研究生院; 北京; 100039; 中国科学院电工研究所; 北京; 100080
  • 超磁致伸缩薄膜性能测试系统研究 作者:何滨; 章良; 宋祖殷;湖南建筑高级技工学校机电系; 长沙; 410015; 空军驻湖南军代室; 长沙; 410016; 空军驻湖南军代室; 长沙; 410016

投稿常见问题

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