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Journal Of Vacuum Science & Technology A

Journal Of Vacuum Science & Technology ASCIE

国际简称:J VAC SCI TECHNOL A  参考译名:真空科学与技术学报

  • 中科院分区

    3区

  • CiteScore分区

    Q2

  • JCR分区

    Q3

基本信息:
ISSN:0734-2101
E-ISSN:1520-8559
是否OA:未开放
是否预警:否
TOP期刊:否
出版信息:
出版地区:UNITED STATES
出版商:AVS Science and Technology Society
出版语言:English
出版周期:Bimonthly
出版年份:1983
研究方向:材料科学:膜-工程技术
评价信息:
影响因子:2.4
H-index:100
CiteScore指数:5.1
SJR指数:0.569
SNIP指数:0.957
发文数据:
Gold OA文章占比:27.03%
研究类文章占比:97.60%
年发文量:333
自引率:0.1034...
开源占比:0.2737
出版撤稿占比:0
出版国人文章占比:0.03
OA被引用占比:0.2168...
英文简介 期刊介绍 CiteScore数据 中科院SCI分区 JCR分区 发文数据 常见问题

英文简介Journal Of Vacuum Science & Technology A期刊介绍

Journal of Vacuum Science & Technology A publishes reports of original research, letters, and review articles that focus on fundamental scientific understanding of interfaces, surfaces, plasmas and thin films and on using this understanding to advance the state-of-the-art in various technological applications.

期刊简介Journal Of Vacuum Science & Technology A期刊介绍

《Journal Of Vacuum Science & Technology A》自1983出版以来,是一本材料科学优秀杂志。致力于发表原创科学研究结果,并为材料科学各个领域的原创研究提供一个展示平台,以促进材料科学领域的的进步。该刊鼓励先进的、清晰的阐述,从广泛的视角提供当前感兴趣的研究主题的新见解,或审查多年来某个重要领域的所有重要发展。该期刊特色在于及时报道材料科学领域的最新进展和新发现新突破等。该刊近一年未被列入预警期刊名单,目前已被权威数据库SCIE收录,得到了广泛的认可。

该期刊投稿重要关注点:

Cite Score数据(2024年最新版)Journal Of Vacuum Science & Technology A Cite Score数据

  • CiteScore:5.1
  • SJR:0.569
  • SNIP:0.957
学科类别 分区 排名 百分位
大类:Physics and Astronomy 小类:Condensed Matter Physics Q2 135 / 434

69%

大类:Physics and Astronomy 小类:Surfaces and Interfaces Q2 19 / 57

67%

大类:Physics and Astronomy 小类:Surfaces, Coatings and Films Q2 45 / 132

66%

CiteScore 是由Elsevier(爱思唯尔)推出的另一种评价期刊影响力的文献计量指标。反映出一家期刊近期发表论文的年篇均引用次数。CiteScore以Scopus数据库中收集的引文为基础,针对的是前四年发表的论文的引文。CiteScore的意义在于,它可以为学术界提供一种新的、更全面、更客观地评价期刊影响力的方法,而不仅仅是通过影响因子(IF)这一单一指标来评价。

历年Cite Score趋势图

中科院SCI分区Journal Of Vacuum Science & Technology A 中科院分区

中科院 2023年12月升级版 综述期刊:否 Top期刊:否
大类学科 分区 小类学科 分区
材料科学 3区 MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科学:膜 PHYSICS, APPLIED 物理:应用 3区 3区

中科院分区表 是以客观数据为基础,运用科学计量学方法对国际、国内学术期刊依据影响力进行等级划分的期刊评价标准。它为我国科研、教育机构的管理人员、科研工作者提供了一份评价国际学术期刊影响力的参考数据,得到了全国各地高校、科研机构的广泛认可。

中科院分区表 将所有期刊按照一定指标划分为1区、2区、3区、4区四个层次,类似于“优、良、及格”等。最开始,这个分区只是为了方便图书管理及图书情报领域的研究和期刊评估。之后中科院分区逐步发展成为了一种评价学术期刊质量的重要工具。

历年中科院分区趋势图

JCR分区Journal Of Vacuum Science & Technology A JCR分区

2023-2024 年最新版
按JIF指标学科分区 收录子集 分区 排名 百分位
学科:MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS SCIE Q3 13 / 23

45.7%

学科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q3 96 / 179

46.6%

按JCI指标学科分区 收录子集 分区 排名 百分位
学科:MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS SCIE Q3 12 / 23

50%

学科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 88 / 179

51.12%

JCR分区的优势在于它可以帮助读者对学术文献质量进行评估。不同学科的文章引用量可能存在较大的差异,此时单独依靠影响因子(IF)评价期刊的质量可能是存在一定问题的。因此,JCR将期刊按照学科门类和影响因子分为不同的分区,这样读者可以根据自己的研究领域和需求选择合适的期刊。

历年影响因子趋势图

发文数据

2023-2024 年国家/地区发文量统计
  • 国家/地区数量
  • USA368
  • Japan77
  • GERMANY (FED REP GER)61
  • South Korea56
  • France44
  • Sweden33
  • CHINA MAINLAND31
  • England29
  • Finland26
  • Netherlands26

本刊中国学者近年发表论文

  • 1、Selectivity dependence of atomic layer deposited manganese oxide on the precursor ligands on platinum facets

    Author: Lan, Yuxiao; Wen, Yanwei; Li, Yicheng; Yang, Jiaqiang; Cao, Kun; Shan, Bin; Chen, Rong

    Journal: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A. 2023; Vol. 41, Issue 1, pp. -. DOI: 10.1116/6.0002173

  • 2、Dynamic character of compositional sputter depth profiling by SIMS: A comparison of different models for quantitative profile evaluation

    Author: Hofmann, Siegfried; Zhong, Feng-Min; Yang, Hao; Wang, Jiang-Yong; Xu, Cong-Kang

    Journal: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A. 2023; Vol. 41, Issue 1, pp. -. DOI: 10.1116/6.0002233

  • 3、Aluminum nitride crystal-based photodetector with bias polarity-dependent spectral selectivity

    Author: Fan, Zelong; Qin, Zuoyan; Jin, Lei; Cao, Yuan; Yue, Zhongyu; Li, Baikui; Wu, Honglei; Sun, Zhenhua

    Journal: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A. 2023; Vol. 41, Issue 1, pp. -. DOI: 10.1116/5.0133162

  • 4、Effect of plasma nitriding substrate current density on the adhesion strength of in situ PVD TiN coatings

    Author: Zhang, Xin; Tian, Xiu-bo; Gong, Chun-zhi; Liu, Xiang-li; Li, Jin

    Journal: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A. 2023; Vol. 41, Issue 3, pp. -. DOI: 10.1116/6.0002353

  • 5、Enhancement of discharge and mechanical properties of ta-C films by pulse-enhanced cathodic arc deposition

    Author: Wang, Benfu; Tian, Xiubo; Hu, Jian; Gong, Chunzhi; Liu, Xiangli; Li, Jin

    Journal: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A. 2023; Vol. 41, Issue 3, pp. -. DOI: 10.1116/6.0002352

  • 6、Physical properties of Zn-Sn-N films governed by the Zn/(Zn plus Sn) ratio

    Author: Ren, JunYan; Liang, LingYan; Liu, Xiaohan; Cao, Hongtao

    Journal: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A. 2023; Vol. 41, Issue 3, pp. -. DOI: 10.1116/6.0002454

  • 7、Method for extracting the intrinsic diffusion coefficient from grain boundary diffusion depth profile

    Author: Lian, Songyou; Fourie, Antonie J.; Wang, Jiangyong; Swart, Hendrik C.; Terblans, Jacobus Johannes

    Journal: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A. 2023; Vol. 41, Issue 3, pp. -. DOI: 10.1116/6.0002400

  • 8、Interface-mediated ferroelectricity in PMN-PT/PZT flexible bilayer via pulsed laser deposition

    Author: Chen, Rong; Qi, Zilian; Xiong, Yingfei; Li, Yicheng; Zhang, Xiaodong; Cao, Kun

    Journal: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A. 2023; Vol. 41, Issue 3, pp. -. DOI: 10.1116/6.0002386

投稿常见问题

通讯方式:A V S AMER INST PHYSICS, STE 1 NO 1, 2 HUNTINGTON QUADRANGLE, MELVILLE, USA, NY, 11747-4502。